高純度銅母線濺鍍靶材(4N-6N)

簡短描述:

產品規格
名稱:高純度銅母線濺鍍靶材
標準:ASTM F68(無氧電子銅)、ASTM B115,純度≥99.99%(4N-6N),符合RoHS標準,符合REACH標準
材料:C10100(OFHC銅)、C10200(無氧銅)、高純度銅(4N/5N/6N)
表面處理:精密加工/拋光,Ra ≤0.5 μm,可選銦鍵合至背板
長度:500毫米 – 4000毫米
寬度:50毫米 – 400毫米
厚度:5毫米 – 30毫米
產品特性:超高純度,雜質含量極低;優異的導電性和導熱性;均勻的微觀結構,確保穩定的濺射;大面積沉積時材料利用率高;薄膜均勻性和附著力極佳;低放氣量和低顆粒產生;連續製程中靶材壽命長。
應用領域:薄膜太陽能電池(CIGS、CdTe、鈣鈦礦)、大面積平面顯示器、建築玻璃塗層、汽車及裝飾塗層、觸控螢幕和柔性電子產品、封裝中的阻隔層、研究級線性沉積系統、高通量PVD生產線


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高純度銅母線濺鍍靶材-製程及品質保證聲明

我們的銅母線靶材是專門為大面積、大批量物理氣相沉積而開發的,在這種工藝中,在大長度範圍內實現均勻塗層至關重要。

關鍵工藝特徵

製造過程中採用先進的冶金和機械加工技術,以確保性能穩定可靠:
●起始原料:採用經驗證具有超高純度的優質電解銅陰極作為基礎。
●真空精煉:多級真空熔煉去除氣態和金屬雜質,達到 4N-6N 水準。
●連鑄:可控熱擠壓或連鑄可生產出組織均勻的長而緻密的坯料。
●熱加工:鍛造和軋製細化晶粒尺寸,達到接近理論密度。
●精密切割和加工:數控鋸切和銑削可製造出具有平行面的精確矩形尺寸。
●表面處理:多階段研磨和拋光可產生乾淨、無缺陷的濺鍍表面。
●黏合方式:可採用低溫銦或彈性體黏合在不銹鋼或鉬背板上。
●無塵室包裝:最終超音波清洗和雙層真空包裝確保無污染交付。

品質控制系統

● 從陰極源到成品母線目標的完全可追溯性
● 每台設備均提供完整的材料認證和測試報告
●存檔樣品保留≥3年,用於獨立驗證(SGS、BV等)。
●關鍵參數 100% 檢測:
• 純度驗證(GDMS/ICP 分析;氧含量通常 <5 ppm)
• 密度測試(≥99.5% 理論值)
• 晶粒結構評估(金相學)
• 尺寸精度(三坐標測量機;平行度通常≤0.1mm)
• 表面品質和粗糙度(輪廓儀 + 無塵室檢測)
● 內部規格優於 ASTM F68 標準。典型特性:導熱係數 >395 W/m·K,穩定的無電弧濺鍍性能,磁控濺鍍系統沉積速率高。


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