高純度訂製型銅靶材（4N-6N）

簡短描述：

產品規格
名稱：擠壓成型高純度銅異形濺鍍靶材
標準：ASTM F68（無氧電子銅）、ASTM B115，純度≥99.99%（4N-6N），符合RoHS標準，符合REACH標準
材料：C10100（OFHC銅）、C10200（無氧銅）、高純度銅（4N/5N/6N）
表面處理：精密加工/拋光，表面粗糙度Ra≤0.5μm，可選配背板黏合
橫斷面：客製化異形截面（例如，矩形、管狀、階梯狀或複雜幾何形狀）
長度：500毫米 – 3500毫米
厚度/寬度：5毫米 – 200毫米（取決於型材設計）
產品特性：超高純度，雜質含量極低；擠壓製程造就緻密均勻的微觀結構；能夠加工成標準機械加工無法實現的複雜幾何形狀；優異的導熱性和導電性；在各種成型表面上均能保持穩定的濺射速率；材料利用率高，薄膜均勻性好；缺陷極少，顆粒生成量低。
應用領域：大面積薄膜太陽能板、建築和汽車玻璃塗層、柔性電子和捲對卷沉積、先進光學濾波器和反射鏡、需要異形源的半導體阻擋層、顯示器背板和觸控感測器、不規則基板上的裝飾性和功能性塗層、具有定制靶材設計的高功率磁控濺射系統

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擠壓成型高純度銅異形濺鍍靶材－製程及品質保證聲明

我們生產的擠壓成型銅靶材專為需要複雜幾何形狀和在非標準表面上均勻沉積的應用而設計，而傳統的平面靶材則無法滿足這些應用的需求。

關鍵工藝特徵

擠壓成型工藝可確保優異的材料性能和形狀保真度：
●高純度起始原料：精選經驗證氧含量及雜質含量低的電解銅。
●真空熔煉與合金化：反覆真空感應熔煉可達到純度為 4N-6N 的均勻成分。
●坯料製備：鑄造成圓柱形坯料，然後進行均質化處理以獲得均勻的晶粒。
●熱擠壓：透過客製化模具進行精密熱擠壓，形成具有優異密度和流動性的複雜橫截面。
●冷加工和退火：透過控制拉拔和熱處理來細化組織並消除應力。
●精密加工：CNC加工和表面拋光在所有型材表面上形成光滑的濺射表面。
●黏合服務：可選擇將低熔點銦黏合到相容的背襯管或板上。
●無塵室處理：最終清潔和真空包裝可防止污染。

品質控制系統

● 從原始銅陰極到成品異形靶材，全程可追溯
● 每次交付均包含完整的認證文件包
●存檔樣品保存≥3年，用於第三方分析（SGS、BV等）。
● 關鍵屬性100%檢驗：
• 純度與元素分析（GDMS/ICP-MS；典型氧含量<5 ppm）
• 密度驗證（擠壓成型，理論密度>99%）
• 微觀結構與晶粒均勻性（金相檢驗）
• 輪廓尺寸精度（3D 三坐標測量機；典型公差為 ±0.1mm）
• 表面光潔度和無缺陷狀況（輪廓儀測量+目視檢查）
● 內部標準優於 ASTM F68 要求。典型擠壓性能：優異的導電性（>400 W/m·K）、濺鍍過程中優異的形狀保持性、在複雜的磁控濺鍍配置中性能穩定。
● 符合無塵室標準的操作和 ISO 9001:2015 認證的生產保證了可靠的、高性能的目標，以滿足您特殊的塗層需求。